设备型号:PWIN-200,PWIN-300
外形尺寸:800*1000*1600mm
兼容尺寸:8~12inch
平台精度:精密运动平台,精度可达2um
成像配置:
500W彩色面阵相机,2X物镜;2D表面缺陷检测能力:2um@明场;
◆ 兼容Wafer出货检,Wafer封测来料检
◆ Bright Field缺陷检测模式
◆ 兼容多种算法联合检测,配备AI深度学习及ADC功能,
◆ 半自动上下料