设备型号:OVL200
外形尺寸:4000*2000*1800mm
检测内容:Overlay精度量测
平台精度:00级大理石平台
成像配置:
IBO模式;BoxIn Box、Bar In Bar、AlM;OVL Precision<2nm,OVL TSl<1nm;CD Precision<7nm(3西格玛);
◆ 纳米级高精密
◆ 毫秒级整定时间
◆ 主动减振
◆ 亚像素定位
◆ 自动聚焦
◆ 自适应算法